سیلیکات پتاسیم بُن فارم

ویژگی ها:

  • افزایش دهنده عملکرد و قابلیت انبارداری محصولات
  • افزایش دهنده مقاومت گیاه در برابر بیمای ها و آفات مکنده مانند پسیل
  • افزایش دهنده مقاومت گیاه به تنش‌های محیطی مانند گرما و خشکی
  • پیشگیری کننده از ورس در غلات
  • بهبود دهنده انتقال مواد غذایی و متابولیسم در گیاهان
  • جلوگیری کننده از اثرات آفتاب سوختگی در گیاه مانند سوختگی برگ ها

سیلیکات پتاسیم بُن فارم

سیلیکات پتاسیم بن فارم، با تامین عناصر سیلیسیم و پتاسیم برای گیاهان، باعث افزایش مقاومت آنها در برابر تنش‌های محیطی مانند گرما و خشکی، آفات مانند شته،‌ کنه،‌ کرم ساقه خوار، پسیل و بیماری‌هایی همچون بلاست برنج، پژمردگی ورتیسیلیومی و سفیدک پودری می گردد. استفاده از سیلیسیم در غلات سبب افزایش استحکام ساقه و جلوگیری از ورس غلات می‌شود. استفاده از این کود، موجب بهبود انتقال مواد غذایی در گیاه، افزایش متابولیسم، جلوگیری از سوختگی برگ، افزایش عملکرد و ماندگاری محصولات می شود. سیلیکات پتاسیم بن فارم در درختان پسته در جلوگیری از پوکی مغز و افزایش عملکرد نقش دارد.

 

نحوه مصرف:

  • مصرف خاکی آبی درختان میوه (لیتر در هکتار): 10- 8 (زمان مصرف: یک تا دو مرحله و از زمان شروع رشد میوه)
  • محلول پاشی درختان میوه (لیتر  در هزار): 3- 2 (زمان مصرف: یک تا دو مرحله و از زمان شروع رشد میوه)
  • مصرف خاکی آبی گیاهان زراعی (لیتر در هکتار): 8- 6 (زمان مصرف: یک تا دو مرحله از زمان ساقه دهی)
  • محلول پاشی گیاهان زراعی (لیتر در هزار): 3- 2 (زمان مصرف: یک تا دو مرحله از زمان ساقه دهی)
  • مصرف خاکی آبی سبزی و صیفی (لیتر در هکتار): 8 – 6 (زمان مصرف: بعد از گلدهی و از زمان شروع رشد میوه)
  • محلول پاشی سبزی و صیفی (لیتر در هزار): 3- 2 (زمان مصرف: بعد از گلدهی و از زمان شروع رشد میوه)

 

 

Additional information

نام محصول

سیلیکات پتاسیم بن فارم

چگالی

1.3 gr/cm³

حجم قابل سفارش

1L . 5L

K2O (وزنی/ وزنی)

10 %

K2O (وزنی/ حجمی)

13 %

SiO2 (وزنی/وزنی)

20 %

SiO2 (وزنی/حجمی)

26 %

Reviews

There are no reviews yet.

Be the first to review “سیلیکات پتاسیم بُن فارم”

Your email address will not be published. Required fields are marked *

Reviews

There are no reviews yet.

Be the first to review “سیلیکات پتاسیم بُن فارم”

Your email address will not be published. Required fields are marked *